99.6%純度GR1 GR2の円形のチタニウムの放出させるターゲット ハードウェア

"ターゲット"という単語は 日常生活で使われる ターゲット材料から由来しますコーティング材料は電子線またはイオン線で爆撃されます発射する材料は"発射対象"と呼ばれます

金属チタンからチタン発射標的へ

タイタンのスプートリングターゲットは,チタン金属を原材料として製造したチタン製品で,チタンフィルムをスプートリングで生産するために使用されます.金属チタン鋳造方法と粉末金属工法でチタン発射標的を製造する2つの方法があります..

鋳造: 特定の 割合 の 原材料 を 溶かし,溶液 を 鋳型 に 注ぎ込み,金塊 を 形成 し,最後に 噴射 対象 に する 機械 に 加工 する.方法としては,真空で溶かして鋳造する.

粉末 金属 製造: 特定の 割合 の 原材料 を 溶かし,鋳物 に し,粉末 を 粉砕 し,粉末 を 離散 圧縮 し,高温 で シンター に し て 標的 を 作る.

製品名:チタンターゲットのスプートリング

材料:純チタン:GR1 GR2

純度 >=99.6%

応用:ハードウェア,装飾,道具,陶器,ゴルフ,その他のコーティング産業

サイズ:

丸いスプッティング対象: Φ100×40, Φ95×45, Φ80×40, Φ90×40, Φ85×35およびその他の特定のサイズ.

チューブスプッターターゲットは: Φ70×7×L900--2000mm, Φ89.4mmX7.62mmX1728mm, Φ89.4mmX15mmX1728mm, Φ80mmX10mmX1728mm,その他の特定のサイズ.

プレート・スプートリング・ターゲット:T6-40×W60-800×L600-2000mm その他の特定のサイズ

顧客ニーズに応じて異なる比率で合金標的をカスタマイズすることができます

詳細な画像:

材料:

1) Ti/Al合金目標 (67:33,50%:50%

2) W/Ti合金目標 (90:10wt%),

3) Ni/V合金目標 (93:7, wt%)

4) Ni/Cr合金目標 (80:2070歳30, wt%),

5) アル/Cr合金目標 (70:30,50%:50%

6) Nb/Zr合金目標 (97:3,90体重10%)

7) Si/Al合金目標 (90:1095: ほら598: ほら270歳30, wt%)

8) Zn/Al合金標的

9) 高純度クロム目標 (99.95%,99.995%)

10) アル/Cr合金目標 (70:3050: ほら5067: どういうこと?33% で

11) Ni/Cu合金目標 (70:3080歳20, wt%)

12) アル・アンド合金目標 (98:2wt%)

13) Mo/Nb合金目標 (90:10, wt%)

14) TiAlSi合金目標 (Ti/Al/Si=30/60/10,33/67,40/50/10,wt%および%)

15)CrAlSi合金目標 (Cr/Al/Si=30/60/10,wt%および%)

3工場

4パッケージと配達

- - - - - - - - - - - - - -封印された包装は カートンケースか 標準的な標準的なプレプレイスカーに入れます

- - - - - - - - - - - - - 2顧客ロゴのカスタムカートンを使用し 購入者が直接販売できるように

--- 顧客の要求に応える

商品が損傷しないようにしてください.

まだチタン製品がある 必要な場合はカタログを送る